RAITH

Raith PIONEER Two

  • Электронно-лучевой литограф и сканирующий электронный микроскоп
  • Энергия пучка            20 эВ – 30 кэВ
  • Зондовый ток             5 пА – 20 нА
  • Максимальный размер подложек: 2 дюйма
  • Минимальный размер получаемой структуры/линии < 8 нм
  • Минимальный размер периода решетки <40 нм
  • Автоэмиссионный катод Шоттки, диаметр пятна зонда <1,6 нм
  • Внутрилинзовый детектор вторичных электронов

Raith e_Line PLUS

  • Электронно-лучевой литограф ультравысокого разрешения
  • Энергия пучка            20 эВ – 30 кэВ
  • Зондовый ток             5 пА – 20 нА
  • Максимальный размер подложек: 4 дюйма
  • Минимальный размер получаемой структуры/линии < 10 нм
  • Автоэмиссионный катод Шоттки, диаметр пятна зонда <2 нм
  • Внутрилинзовый детектор вторичных электронов
  • Долговременная стабильность тока пучка (<0,5% / 8 часов)

Raith VOYAGER

  • Высокопроизводительный электронно-лучевой литограф, построенный на инновационной технологии Raith eWrite
  • Энергия пучка            до 50 кэВ
  • Зондовый ток             50 пА – 40 нА
  • Максимальный размер подложек: 8 дюймов
  • Минимальный размер получаемой структуры/линии < 10 нм
  • Минимальный размер периода решетки < 40 нм
  • Автоэмиссионный катод Шоттки
  • Электростатическая колонна

Raith EBPG5150, Raith EBPG5200

  • Высокопроизводительный электронно-лучевой литограф
  • Энергия пучка            100 кэВ
  • Зондовый ток             >200 нА
  • Максимальный размер подложек: 6 дюймов(EBPG5150), 8 дюймов (EBPG5200)
  • Минимальный размер получаемой структуры/линии < 10 нм
  • Единичное поле экспонирования до 1 мм
  • Генератор развертки 100 МГц
  • Автоматическая калибровка системы

Raith 150 TWO

  • Электронно-лучевой литограф ультравысокого разрешения
  • Энергия пучка            100 эВ – 300 кэВ
  • Зондовый ток             5 пА – 20 нА
  • Максимальный размер подложек: 8 дюймов
  • Минимальный размер получаемой структуры/линии < 10 нм
  • Автоэмиссионный катод Шоттки, диаметр пятна зонда <2 нм
  • Внутрилинзовый детектор вторичных электронов
  • Долговременная стабильность тока пучка (<0,5% / 8 часов)

Raith ionLine

  • Ионно-лучевой литограф с широким диапазоном техник литографирования и прямой обработки поверхности ионным пучком, включая: сшивку и выравнивание полей экспонирования, многослойную литографию с высокоточным наложением, бесшовное рисование объектов с высоким аспектным соотношением, локальное травление и осаждение материалов
  • Применение: междисциплинарные научные центры и научные центры общего пользования
  • Размер подложек:  плоские образцы пластин до 6 дюймов или образцы с выраженной топографией 3D
  • Энергия пучка            от 15 до 40 кВ
  • Зондовый ток             от 0.5 пА до 1 нА
  • Минимальный размер получаемой линии травления < 10 нм
  • Пространственное разрешение: 5 нм в режиме изображения
  • Ионная колонна