PlasmaPro 1000 Stratum

  • Установка для плазмоактивированного химического осаждения из газовой фазы с открытой системой загрузки для группового производства светодиодов
  • Назначение – пассивация за счет плазмоактивированного химического осаждения из газовой фазы диэлектириков (SiO2, SiNx), а также осаждение нитридов и оксидов металлов
  • Варианты исполнения: одиночная установка; установка для работы в кластере
  • Подложки: пластины ?50мм – 61 шт; ?100мм – 15 шт; ?150мм – 7 шт; ?200мм – 3 шт; ?300мм – 1 шт; ?450мм – 1шт
  • Управление температурой  подложки от 20°C до 400°C (опционно – до 800°C)
  • Нижний электрод (подложкодержатель)  ? 490 мм
  • Стандартная загрузка-выгрузка подложек  — через вакуумный загрузочный шлюз; возможные варианты – прямая загрузка либо через загрузчик кластера
  • Источник плазмы: RF-генератор 13,5 МГц
  • Возможность подключения до 12 газовых линий
  • Габариты: одиночная — 2614 x 678 x 1474 мм; в составе кластера — 3584 x 1775 x 1470 мм

к списку