НПО «ГКМП»

СДОМ

  • Термодиффузионная установка для обработки полупроводниковых пластин в рамках НИОКР и промышленного производства
  • Назначение:  проведение процессов окисления (в том числе и пирогенного) и диффузии с применением различных окислителей и диффузантов (азота, хлора, мышьяка, фосфора, бора и пр.)
  • Количество камер (труб) в установке: 1, 2, 3 или 4
  • Подложки: пластины ?100 мм, ?150 мм (?200 мм и ?300 мм в разработке)
  • Габариты рабочей зоны камеры: ?100 мм, ?150 мм (?200 мм и ?300 мм в разработке); длина – до 600 мм (по требованию заказчика)
  • Диапазон рабочих температур в камере нагрева: (100?1250) °С
  • Способ нагрева: резистивный
  • Допустимая масса загрузки: (1?15) кг
  • Диапазон скоростей нагрева/охлаждения:   (1?20) °С/мин