АО «НТО» (SemiTEq®)

STE EB71

  • Автоматизированная установка электронно-лучевого напыления в сверхвысоком вакууме для НИОКР и мелкосерийное производство в составе технологической линии
  • Назначение: для напыления высококачественных слоев Al , W , Ti, Au, ITO и др.
  • Подложки: пластины ?2”, ?3”, ?100 мм, ?150 мм, ?200 мм
  • Загрузка: ?2” – 6 шт., ?3” – 3 шт., ?100 мм – 1шт., ?150 мм – 1шт., ?200 мм – 1шт.
  • Шлюзовая камера дверного типа
  • Рабочая камера из нержавеющей стали с интегрированным водяным охлаждением стенок
  • Нагрев пластин
  • Размещение подложек на вращающемся подложкодержателе

STE EB65

  • Автоматизированная установка группового электронно-лучевого напыления для серийного производства
  • Подложки: пластины ?2”, ?3”, ?100 мм, ?150 мм, ?200 мм
  • Загрузка: ?2” – 42 шт., ?3” – 20 шт., ?100 мм – 12шт., ?150 мм – 5шт., ?200 мм – 3шт.
  • Рабочая камера из нержавеющей стали с интегрированным водяным охлаждением стенок, разделяемая пневматическим высоковакуумным шибером Ду400 для быстрой откачки основного объема и старта технологического процесса после загрузки пластин (блок электронно-лучевого испарения при этом находится в условиях высокого вакуума и готов к немедленному проведению технологических процессов)
  • Нагрев пластин
  • Возможность прогрева камеры с целью обезгаживания внутренних стенок в процессе откачки: до 80 °С
  • Врашающийся алюминиевый держатель пластин купольного типа с системой вращения держателя пластин, рассчитанный на пластины 20??3” либо 12??4” (возможно изготовление под ?2” либо ?150 мм)
  • Ионный источник: (20?300) Эв

STE MS150

  • Универсальная исследовательская установка магнетронного напыления для НИОКР
  • Назначение: для напыления высококачественных слоев металлов (Cu, Cr, Ni, Ag, Al, Ti, W, V, Ta и др.); резистивных сплавов (РС-3710, NiCr и др.); диэлектриков (SiO2, SiNx, TiN, LiNbO3, Ta2O3 и др.); пленок ITO и др.
  • Подложки: пластины ?100 мм, ?150 мм
  • Загрузка: ?100 мм – 1шт., ?150 мм – 1шт. (3 шт. при использовании держателя пластин карусельного типа)
  • Шлюзовая камера с манипулятором для передачи пластины в камеру напыления и индивидуальной системой откачки
  • Расположение источников на гибком кронштейне с возможностью конфокального напыления
  • Нагрев пластин
  • Вращающийся держатель пластин: до 20 об/мин

STE MS900

  • Установка магнетронного и терморезистивного напыления для НИОКР и мелкосерийного производства
  • Назначение: для группового двустороннего напыления напыления многокомпонентных тонких пленок: металлов (Cu, Cr, NiCr, Al, Ni и др.); магнитных материалов; RS-сплавов; многокомпонентных оксидов (NdAlO3); ITO (оксид индия и олова); резистивных (TaN, РС3710, РС5402); диэлектрических (SiO2) и проводящих пленок в одном цикле (в т.?ч. V-Cu-Ni) и др.
  • Подложки: 60?48 мм; пластины ?150 мм, ?200 мм
  • Загрузка: 60?48 мм – 30 шт. (одна сторона) или 24 шт. (с переворотом); ?150 мм – 6 шт. (одна сторона) или 5 шт. (с переворотом); ?200 мм – 5 шт.
  • Энергия ионного источника для предварительной очистки подложек перед нанесением: (20?300) эВ
  • Цилиндрическая рабочая камера из нержавеющей стали состоит из неподвижного блока источников и подъемной верхней крышки и встроенным водяным охлаждением стенок
  • Нагрев пластин
  • Вращающийся держатель пластин карусельного типа с возможностью варьирования размеров образцов: до 20 об/мин

STE D700E

  • Установка электронно-лучевого напыления
  • Назначение: для напыления тонких пленок металлов, диэлектриков и полупроводниковых материалов и др.
  • Подложки: пластины ?2”, ?3”, ?100 мм, ?150 мм, ?200 мм
  • Вариант исполнения: без шлюзовой камеры или с шлюзовой камерой (опционно)
  • Загрузка: без шлюзовой камеры —  ?2” – 42 шт., ?3” – 20 шт., ?100 мм – 12шт., ?150 мм – 6 шт.; с шлюзовой камерой —  ?2” – 6 шт., ?3” – 3 шт., ?100 мм – 1шт., ?150 мм – 1шт., ?200 мм – 1шт.
  • Камера напыления дверного типа с интегрированным водяным охлаждением стенок
  • Нагрев пластин
  • Ионная очистка

STE D700М

  • Установка магнетронного распыления
  • Подложки: пластины ?2”, ?3”, ?100 мм, ?150 мм, ?200 мм
  • Вариант исполнения: без шлюзовой камеры или с шлюзовой камерой (опционно)
  • Загрузка: без шлюзовой камеры —  ?2” – 42 шт., ?3” – 20 шт., ?100 мм – 12 шт., ?150 мм – 6 шт.; с шлюзовой камерой —  ?2” – 6 шт., ?3” – 3 шт., ?100 мм – 1шт., ?150 мм – 1шт., ?200 мм – 1шт.
  • Вариант исполнения установки: карусельное или конфокальное
  • Камера напыления дверного типа с интегрированным водяным охлаждением стенок
  • Нагрев пластин
  • Ионная очистка

STE D700T

  • Установка терморезистивного напыления
  • Подложки: пластины ?2”, ?3”, ?100 мм, ?150 мм, ?200 мм
  • Вариант исполнения: без шлюзовой камеры или с шлюзовой камерой (опционно)
  • Загрузка: без шлюзовой камеры —  ?2” – 42 шт., ?3” – 20 шт., ?100 мм – 12 шт., ?150 мм – 6 шт.; с шлюзовой камерой —  ?2” – 6 шт., ?3” – 3 шт., ?100 мм – 1шт., ?150 мм – 1шт., ?200 мм – 1шт.
  • Камера напыления дверного типа с интегрированным водяным охлаждением стенок
  • Нагрев пластин
  • Размещение подложек на вращающемся держателе пластин: плоская карусель (без шлюзовой камеры) или купольный держатель (с шлюзовой камерой)
  • Скорость вращения держателя пластин: до 20 об/мин