TORR

Torr серия MagSput™

  • Установка  магнетронного распыления для НИОКР и небольших опытных производств
  • Назначение: для осаждения тонких слоёв металлов, полупроводников, диэлектриков, многосоставных материалов для получения многослойных оптических покрытий; изготовления сенсорных устройств, солнечных элементов, топливных элементов; для исследования тонких пленок, сверхпроводников; изготовления специализированных микросхем, МЭМС, магнитных устройств; для биомедицинских исследований и пр.
  • Варианты модификаций установок: MagSput-2G3-PC, MagSput-2G2, MagSput-3G-2, MagSput-PC-3G3-RF1-DC1, MagSput-4G2-RF-DC, MagSput-4G2-RF-DC-HT и пр.
  • Подложки: пластины / образцы до ?300 мм
  • Загрузка: ручная
  • Рабочая D-образная камера: из электрополированной нержавеющей стали
  • Смотровое окно ?4” в передней дверце рабочей камеры
  • Варианты напыления: постоянным током/радиочастотным напылением

Torr серия CRC

  • Компактная установка  планарного магнетронного распыления для НИОКР в области нанотехнологий
  • Назначение: для разработки процессов осаждения материалов, включая алюминий, углерод, хром, золото, тефлон, диоксид кремния, тантал, вольфрам, титан и прочие на такие подложки, как как ПЭТ (полиэтилентерефталат) с покрытием ITO, стекло с покрытием ITO, стекло, кварц, кремний, полистирол и т.д.
  • Несколько модификаций установок, например – CRC300, CRC622
  • Подложки: пластины / образцы до ?100 мм (CRC300), до ?150 мм (CRC622)
  • Загрузка: ручная
  • Рабочая из электрополированной нержавеющей стали: D-образная камера (CRC622); шкафная (CRC300)
  • Смотровое окно ?4” в передней дверце рабочей камеры
  • Водоохлаждаемый подложкодержатель: ?6”

Torr серия Ion Beam Depositon System (IBD)

  • Установка  ионно-лучевого осаждения для НИОКР и небольших опытных производств
  • Назначение: для ионного осаждения тонких слоёв различных материалов
  • Загрузка: ручная
  • Рабочая D-образная камера: водоохлаждаемая, из электрополированной нержавеющей стали, с верхней крышкой
  • Смотровые окна ?4” в передней и боковой части рабочей камеры
  • Вращающийся подложкодержатель: ?6,5”
  • Варианты IBD: с помощью источника ионов со сходящимся лучом и источника питания с узлом Easy Target Mounting / с помощью комбинации источника ионов с расходящимся пучком Veeco и блока питания Ion Tech MPS-3000 FC
  • Водоохлаждаемый держатель для одного источника: оснащен вращающимся столиком с 4-мя мишенями (стандартный размер мишени – 3”)

Torr серия Electron Beam Evaporation System (EBE)

  • Установка  электронно-лучевого напыления для НИОКР, опытных и мелкосерийных производств
  • Назначение: для электронно-лучевого напыления тонких слоёв металлов, оксидов, магнитных материалов и диэлектриков в областях, как нанотехнологии, оптика, микроскопия, МЛЭ, функциональные и декоративные покрытия
  • Несколько модификаций установок, например — EB-4P (4 карманных тигля разного объема и различные источники питания)
  • Загрузка: ручная
  • Рабочая D-образная камера: из электрополированной нержавеющей стали
  • Смотровое окно ?4” с ручной заслонкой в передней части дверцы рабочей камеры
  • Варианты напыления: постоянным током / высокочастотным напылением
  • Одно-/многокарманные источники электронного луча с тиглем с водяным охлаждением: (4?75) см3

Torr Atomic Layer Deposition (ALD)

  • Установка  атомно-слоевое осаждение для НИОКР
  • Назначение: для осаждения сверхтонких слоёв материалов для усовершенствованных жестких дисков, динамических ОЗУ, накопительных конденсаторов, дисплеев TFEL (фосфоресцентный слой), солнечных элементов, МЭМС, органических светодиодов и пр.
  • Подложки: пластины / образцы до ?8”
  • Загрузка: ручная
  • Загрузочный шлюз – опционно
  • Рабочая камера: из электрополированной нержавеющей стали
  • Смотровое окно в передней части рабочей камеры
  • Газовые линии с РРГ: до 6
  • Источники прекурсоров: до 4
  • Система нагрева подложкодержателя, стенок камеры, газовых линий
  • Система управления: компьютерная / с программируемым логическим контроллером (полуавтоматическая) / ручная
  • Вакуумная система: турбомолекулярные и форвакуумные насосы